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8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。 相比传统的至少需要六面反射镜的配置
快科技8月6日消息，在近日的财报电话会议上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。 High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分
快科技7月17日消息，ASML(阿斯麦)今天公布了2024年第二季度财报，形势喜人：净销售额62.43亿欧元，环比增长18.0％；毛利率51.5％，较上季度提升0.5个百分点；净利润15.78亿欧元，环比增长28.9％
快科技6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML第一代L
据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在，意在何时使用，无需赘言。 但目前尚不清楚它
这几年，Intel以空前的力度推进先进制程工艺，希望以最快的速度反超台积电，重夺领先地位，现在又重申了这一路线，尤其是意欲通过未来的14A 1.4nm级工艺，在未来巩固自己的领先地位。 目前，In
据法国媒体LeMagIT报道，日本光学技术领导厂商 Hoya Corporation （豪雅）最近承认其遭遇了勒索软件的攻击，其总部和几个业务部门IT系统受到了影响。如果不支付1000万美元，其包括EUV掩模坯料和
快科技3月5日消息，Intel发布了一条特殊的开箱视频，堪称史上最贵：他们从ASML拿到的全球第一台高NA EUV光刻机，已经开始在美国俄勒冈州希尔斯伯勒附近的工厂内安装了。 这台型号为Twinscan EX
快科技2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。 那么之后呢？消息称，ASML正在研究下
近日，全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。 除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快202
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